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  • 聚灿光电申请槽式二段显影方法专利, 显著改善显影均匀性和图形轮廓

  • 发布日期:2026-07-22 18:32    点击次数:130

国家知识产权局信息显示,聚灿光电科技(宿迁)有限公司申请一项名为“一种槽式二段显影方法”的专利,公开号CN122219029A,申请日期为2026年4月。

专利摘要显示,本发明属于半导体光电器件制造技术领域,具体涉及一种槽式二段显影方法,包括浸泡‑提拉‑再浸泡式的二段显影步骤,通过物理提拉这一简单操作,在两次浸泡之间引入一个受控的“空气停留”阶段,利用重力排液和表面张力作用,实现显影液的自然更新和边界层破坏,从而在不增加设备复杂度的情况下,显著改善显影均匀性和图形轮廓,达到提升产品良率效果。

天眼查资料显示,聚灿光电科技(宿迁)有限公司,成立于2017年,位于宿迁市,是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本300000万人民币。通过天眼查大数据分析,聚灿光电科技(宿迁)有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目45次,财产线索方面有商标信息1条,专利信息255条,此外企业还拥有行政许可44个。

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本文源自:市场资讯



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